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穩(wěn)定快速的真空沉積氣體流量控制

反應(yīng)濺射真空沉積

質(zhì)量流量控制器用于真空沉積設(shè)備,用于向過程供應(yīng)氣體時確保以可控和準確的方式完成。理想狀態(tài)是儀表可快速響應(yīng)并在幾毫秒內(nèi)達到設(shè)定值。FLEXI-FLOW Compact可幫助此類需求用戶。
物理氣相沉積(PVD)濺射或反應(yīng)濺射是一種層積技術(shù),其中濺射顆粒與引入濺射室的氣體發(fā)生反應(yīng)。

高能氬氣被施加到金屬(鋁)板上,釋放出濺射金屬顆粒的蒸氣。其與提供的活性氣體發(fā)生反應(yīng),在玻璃、硅晶圓、金屬或聚合物上沉積很薄的陶瓷層。反應(yīng)濺射用于涂覆抗反射、硬化、抗磨等涂層。


應(yīng)用要求

快速流量控制在真空沉積技術(shù)中很重要。每一秒都節(jié)省時間和能源,提高沉積設(shè)備的效率。氣體流量需要以可重復(fù)的方式以較大的動態(tài)流量范圍提供,并具有長期穩(wěn)定性,以確保質(zhì)量。

重要議題

  • 快速響應(yīng)流量控制
  • 關(guān)閉功能
  • 大動態(tài)量程
  • 通信接口

工藝方案

FLEXI-FLOW Compact 質(zhì)量流量控制器的響應(yīng)時間達到150毫秒,無超調(diào),可以滿足真空涂層客戶需要多通道流量解決方案,提供穩(wěn)定快速流量控制和關(guān)閉功能的要求。

快速響應(yīng)流量控制

真空沉積設(shè)備的用戶需要響應(yīng)快速的氣體供應(yīng)系統(tǒng)。其優(yōu)化壓力和氣體流量等工藝條件,并在涂層過程中測量涂層厚度來監(jiān)測結(jié)果。在此過程中,應(yīng)保持穩(wěn)定、受控的氣流,以保持涂層的正確厚度和成分。

快速流量控制
當濺射系統(tǒng)監(jiān)測到厚度或透明度出現(xiàn)偏差時,會通過調(diào)整氣體流量來糾正沉積過程。因此,需要非??斓牧髁靠刂?,響應(yīng)時間150毫秒。

FLEXI-FLOW質(zhì)量流量控制器可以做到。如果入口壓力發(fā)生變化,氣體流量控制器以盡可能快的速度響應(yīng)將流量保持在設(shè)定值。當反應(yīng)室發(fā)生變化,流量控制器接收到新的設(shè)定值。對新的設(shè)定值的快速響應(yīng)可以減少浪費和不合格產(chǎn)品。

關(guān)閉功能

可集成切斷閥,以減少真空階段真空室的泄漏,尤其適用于超高真空反應(yīng)器。

大動態(tài)量程

大動態(tài)量程和1:1000大動態(tài)量程比減少了所需的型號和備件數(shù)量,并提高了真空沉積設(shè)備的靈活性。

通信接口

緊湊型多通道解決方案利用Ethernet, EtherCAT 和 Profinet等工業(yè)協(xié)議可通過網(wǎng)關(guān)選擇接口。數(shù)據(jù)可用于預(yù)測性維護。

穩(wěn)定快速的真空沉積氣體流量控制
帶有 6 個質(zhì)量流量控制器的工藝方案示例。采用截止閥以保證真空室的低泄漏率。