應(yīng)用案例?
質(zhì)量流量控制器 | 實(shí)驗(yàn)室培育鉆石
采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD)
良好的可靠性和重復(fù)性是Bronkhorst質(zhì)量流量控制器和壓力控制器的主要特性,適用于使用化學(xué)氣相沉積制造合成實(shí)驗(yàn)室培育鉆石。畢竟,培育單批閃亮鉆石需要長(zhǎng)達(dá)300到600小時(shí),整個(gè)過(guò)程需要保持相同的工藝條件以便獲得恒定品質(zhì)的鉆石。
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應(yīng)用要求為制造實(shí)驗(yàn)室培育鉆石,氣態(tài)反應(yīng)物(如甲烷和氫氣)被送入低壓反應(yīng)器。微波輻射將這些氣體轉(zhuǎn)化為反應(yīng)性化合物(等離子體),化合物沉積在反應(yīng)器中微小鉆石種子晶體上。沉積物遵循晶種的結(jié)構(gòu),逐層形成更大的鉆石。過(guò)程通常需要300到600小時(shí)-相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間,但比天然鉆石的情況要短得多。經(jīng)過(guò)切割和拋光后,實(shí)驗(yàn)室培育鉆石具有與天然鉆石相同的物理、化學(xué)和光學(xué)特性。 對(duì)于批次CVD工藝,需要恒定的低壓力(高真空)。此外,在整個(gè)過(guò)程中,氣態(tài)反應(yīng)物需要以相同的恒定流量供應(yīng)到反應(yīng)器。 |
重要議題
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